低損傷去膠系統(tǒng)
新式去膠系統(tǒng)的成本已攀升到不合理水平。但Trion已通過兩套價(jià)格低廉、緊湊的多功能系統(tǒng)使這一關(guān)鍵問題得到解決：Gemini和Apollo。

利用ICP（電感耦合等離子）、微波和射頻偏置功率， 可以在低溫條件下將難于消除的光刻膠去除。根據(jù)應(yīng)用要求， 每套系統(tǒng)可以結(jié)合SST-Lightning微波源 （既可靠又沒有任何常見的微波調(diào)諧問題）或ICP技術(shù)。

—刻蝕速率高達(dá)6微米/分
—吞吐量高
—等離子損傷低
—自動(dòng)匹配網(wǎng)絡(luò)
—適用于100mm到300mm基片
—設(shè)備占地面積小
—價(jià)格具競(jìng)爭(zhēng)性

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